为稳固全球记忆体龙头地位，韩国开始将次世代非挥发性记忆体与新兴材料、技术列为研发重点，而且将研发成果及大企业闲置资产可由韩国中小型企业运用的方式，促成大型与中小型企业平衡发展，以避免资源过度集中的情形。
2013~2017年韩国列为研发重点的5项记忆体相关技术包括相变化记忆体等新兴非挥发性记忆体、有助提升记忆体运算效能的铜／石墨烯积层构造技术、三五族通道材料、穿隧式场效电晶体、光学内部连结等技术。
通过研发新兴记忆体相关材料与技术，韩国计划开发高附加价值型记忆体核心技术，除朝穿戴式装置扩大应用范围外，更将提升容量与增添功能，并降低功耗以符合行动应用低功耗需求。另外，为避免资源浪费，韩国将2012年推动的纳米相关计划与半导体计划合并组成新团体，以促使成果相互连结。
为平衡三星与封测、IC设计公司等中小型企业间的差距，在韩国政府主导下，如三星等大企业于半导体领域有闲置厂房、设备，将可移转给中小企业使用，促成韩国大型企业与中小型企业共同成长。
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